正型光致抗蚀剂剥离剂组合物
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
本发明公开了一种正型光致抗蚀剂剥离剂组合物，它包括：a)占10－50重量％的有机胺；b)占0－70重量％的二甘醇单烷基醚；c)占20－90重量％的非质子极性溶剂；d)基于所述三种成分的总重量，占0.01－10重量％的非离子表面活性剂。本发明正型光致抗蚀剂剥离剂组合物对经蚀刻处理等工艺而变质的光致抗蚀剂图案膜具有优异的溶解性和剥离性，并与水混合后作为清洗液(rinse)使用时，对铝或铜基板的腐蚀小、蒸发少，不仅对作业环境有利，而且稳定性高，并可用水进行清洗，特别是低温剥离性能优异，因此具有很强的实用性。
基本信息
专利标题 ：
正型光致抗蚀剂剥离剂组合物
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101017333A
申请号 ：
CN200610003266.7
公开（公告）日 ：
2007-08-15
申请日 ：
2006-02-06
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
尹锡壹金圣培郑宗铉朴熙珍辛成健张锡唱金玮溶许舜范金柄郁
申请人 ：
东进世美肯株式会社
申请人地址 ：
韩国仁川市
代理机构 ：
北京金信立方知识产权代理有限公司
代理人 ：
南霆
优先权 ：
CN200610003266.7
主分类号 ：
G03F7/42
IPC分类号 ：
G03F7/42
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/26
感光材料的处理及其设备
G03F7/42
剥离或剥离剂
法律状态
2009-11-11 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
2007-08-15 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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