抗蚀剂剥离液
授权
摘要
提供：在铜/钼的层叠膜上剥离经硬烘培的抗蚀剂时，铜、钼的侧蚀得到了抑制的抗蚀剂剥离液。一种抗蚀剂剥离液，其特征在于，包含：相对于剥离液总量为0.5～5质量％的2级环状胺、相对于前述2级环状胺为5～10质量％的碱性氨基酸、相对于前述碱性氨基酸为10～30质量％的保护剂、相对于前述2级环状胺为10～50质量％的糖醇、有机极性溶剂、以及水。
基本信息
专利标题 ：
抗蚀剂剥离液
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN112805630A
申请号 ：
CN202080005356.8
公开（公告）日 ：
2021-05-14
申请日 ：
2020-07-31
授权号 ：
CN112805630B
授权日 ：
2022-04-05
发明人 ：
渊上真一郎铃木靖纪鬼头佑典
申请人 ：
松下知识产权经营株式会社
申请人地址 ：
日本大阪府
代理机构 ：
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
刘新宇
优先权 ：
CN202080005356.8
主分类号 ：
G03F7/42
IPC分类号 ：
G03F7/42
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/26
感光材料的处理及其设备
G03F7/42
剥离或剥离剂
法律状态
2022-04-05 ：
授权
2021-06-01 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/42
申请日 : 20200731
申请日 : 20200731
2021-05-14 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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