一种光致抗蚀膜剥离液
实质审查的生效
摘要
一种光致抗蚀膜剥离液。本发明是一种光致抗蚀膜剥离液，涉及印制电路板制造领域，主要应用于图形电镀后退膜。由于本发明使用了代用碱，可以延长剥离液的寿命，提高效率；添加了护锡剂，在退膜时避免了溶锡，可以降低镀锡厚度，节约成本。
基本信息
专利标题 ：
一种光致抗蚀膜剥离液
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114326334A
申请号 ：
CN202210083754.2
公开（公告）日 ：
2022-04-12
申请日 ：
2022-01-25
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
刘志强
申请人 ：
千纳微电子技术（南通）有限公司
申请人地址 ：
江苏省南通市高新区新世纪大道266号江海智汇园A2座507-4室
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202210083754.2
主分类号 ：
G03F7/42
IPC分类号 ：
G03F7/42
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/26
感光材料的处理及其设备
G03F7/42
剥离或剥离剂
法律状态
2022-04-29 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/42
申请日 : 20220125
申请日 : 20220125
2022-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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