光致抗蚀剂涂布液供给装置以及使用该光致抗蚀剂涂布液供给装置的光致抗蚀剂涂布液供给方法和光致抗蚀剂涂布装置

光致抗蚀剂涂布液供给装置以及使用该光致抗蚀剂涂布液供给装...

专利权的终止

摘要

本发明提供一种光致抗蚀剂涂布液供给装置和一种涂布液供给方法，以将含有很少颗粒的光致抗蚀剂涂布液供给至光致抗蚀剂涂布装置。还提供了一种光致抗蚀剂涂布装置，其通过使用该光致抗蚀剂涂布液供给装置，可以实现具有很少缺陷和优异成本特性的涂布。该光致抗蚀剂涂布液供给装置具有用于光致抗蚀剂涂布液的缓冲容器；循环过滤装置，用于从缓冲容器中取出部分光致抗蚀剂涂布液，将其过滤并返回至缓冲容器；和用于将涂布液从缓冲容器或循环装置供给至涂布装置的管。还提供使用所述光致抗蚀剂涂布液供给装置的光致抗蚀剂涂布液供给方法，以及将涂布液供给装置与狭缝涂布装置组合使用的光致抗蚀剂涂布装置。

基本信息

专利标题：

光致抗蚀剂涂布液供给装置以及使用该光致抗蚀剂涂布液供给装置的光致抗蚀剂涂布液供给方法和光致抗蚀剂涂布装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN101061569A

申请号：

CN200580040035.7

公开（公告）日：

2007-10-24

申请日：

2005-11-25

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

谷口克人小岛一弘能谷敦子

申请人：

AZ电子材料（日本）株式会社

申请人地址：

日本国东京都

代理机构：

北京三幸商标专利事务所

代理人：

刘激扬

优先权：

CN200580040035.7

主分类号：

H01L21/027

IPC分类号：

H01L21/027 B05C11/10 B05D3/00 G03F7/16 B05C5/02