正型干膜光致抗蚀剂和用于制备该光致抗蚀剂的组合物
专利权的终止
摘要
正型光致抗蚀剂树脂膜包含载体膜和层压在所述载体膜上面的正型光致抗蚀剂树脂层。所述载体膜的峰高(Rp)小于约300nm以消除鱼眼缺陷。所述正型光致抗蚀剂树脂层可以包含碱溶性树脂、重氮化物基光敏化合物、增塑剂以及任选的灵敏度增强剂和释放剂。
基本信息
专利标题 ：
正型干膜光致抗蚀剂和用于制备该光致抗蚀剂的组合物
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101073036A
申请号 ：
CN200580042324.0
公开（公告）日 ：
2007-11-14
申请日 ：
2005-12-07
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
朴世炯金炳基朴钟旼白圣寅
申请人 ：
可隆株式会社
申请人地址 ：
韩国京畿道
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
王旭
优先权 ：
CN200580042324.0
主分类号 ：
G03F7/022
IPC分类号 ：
G03F7/022
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
G03F7/022
苯醌重氮
法律状态
2020-11-13 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : G03F 7/022
申请日 : 20051207
授权公告日 : 20130123
终止日期 : 20191207
申请日 : 20051207
授权公告日 : 20130123
终止日期 : 20191207
2013-01-23 ：
授权
2008-01-09 ：
实质审查的生效
2007-11-14 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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