聚丁二烯系正型抗蚀剂及合成方法
被视为撤回的申请
摘要
本发明属于聚丁二烯系感光性高分子合成法并由此产物制备正型抗蚀剂。由于该产物的结构既具有橡胶系高分子主链又在侧链导入多个重氮萘醌磺酰基的同时使其具有足够量的酚羟基或羧基，在与酚醛树脂等混合作抗蚀剂使用时克服了由低分子酚酯化合物或一般感光性高分子组成的正型抗蚀剂成膜性能差、低温性能和抗酸碱性能差的缺点，同时保持正型抗蚀剂解像力高、水系显影和耐等离子刻蚀的优点。可广泛用于集成电路抗蚀剂和PS版用感光剂。
基本信息
专利标题 ：
聚丁二烯系正型抗蚀剂及合成方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN86108059A
申请号 ：
CN86108059
公开（公告）日 ：
1988-06-22
申请日 ：
1986-12-06
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
余尚先
申请人 ：
北京师范大学
申请人地址 ：
北京市新街口外大街19号
代理机构 ：
北京师范大学专利事务所
代理人 ：
马思渝
优先权 ：
CN86108059
主分类号 ：
C08F36/06
IPC分类号 ：
C08F36/06 G03C1/37
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C08
有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物
C08F
仅用碳-碳不饱和键反应得到的高分子化合物
C08F36/00
具有1个或更多的不饱和脂族基化合物的均聚物或共聚物，至少有1个不饱和脂族基具有两个或更多的碳-碳双键
C08F36/02
只有两个碳-碳双键的基团
C08F36/04
共轭的
C08F36/06
丁二烯
法律状态
1990-03-21 ：
被视为撤回的申请
1988-06-22 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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