抗蚀剂组合物及成形方法
授权
摘要
使用具有丙烯酸酯/甲基丙烯酸酯单体单元的聚合物获得了可在低的能级下用193nm照射(并且可能是其他的照射)成像的酸催化的正性抗蚀剂组合物，其中该单体单元包括优选连接到萘酯基团上的低活化能部分。该抗蚀剂允许了具有低活化能的丙烯酸酯/甲基丙烯酸酯聚合物用于成像的性能优势，由此允许了提高的分辨率和降低的后曝光烘焙敏感性。该抗蚀剂聚合物还优选含有包括氟代醇部分的单体单元和包括内酯部分的单体单元。
基本信息
专利标题 ：
抗蚀剂组合物及成形方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1773377A
申请号 ：
CN200510119432.5
公开（公告）日 ：
2006-05-17
申请日 ：
2005-11-11
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
M·霍贾斯特陈光荣P·R·瓦拉纳斯
申请人 ：
国际商业机器公司
申请人地址 ：
美国纽约
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人 ：
刘明海
优先权 ：
CN200510119432.5
主分类号 ：
G03F7/039
IPC分类号 ：
G03F7/039 G03F7/027 G03F7/038
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
G03F7/039
可光降解的高分子化合物，例如，正电子抗蚀剂
法律状态
2009-10-14 ：
授权
2006-07-12 ：
实质审查的生效
2006-05-17 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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