适用于去除蚀刻后的光致抗蚀剂和底部抗反射涂层的组合物

授权

摘要

公开了一种适用于去除蚀刻后的光致抗蚀剂和底部抗反射涂层的组合物。该水基组合物包含至少一种离液序列高的溶质、至少一种碱性碱和去离子水。采用该组合物在集成电路的制造中实现了硬化的光致抗蚀剂和/或BARC材料的高效去除，而不会不利地影响基片上的金属物质、例如铜，也不会破坏在微电子装置结构中使用的低k介电材料。

基本信息

专利标题：

适用于去除蚀刻后的光致抗蚀剂和底部抗反射涂层的组合物

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN104199261A

申请号：

CN201410384014.8

公开（公告）日：

2014-12-10

申请日：

2006-01-09

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

大卫·W·明赛克王威华大卫·D·伯恩哈德托马斯·H·鲍姆梅利莎·K·拉斯

申请人：

高级技术材料公司

申请人地址：

美国康涅狄格州

代理机构：

中原信达知识产权代理有限责任公司

代理人：

杨海荣

优先权：

CN201410384014.8

主分类号：

G03F7/42

IPC分类号：

G03F7/42

IPC结构图谱

G部——物理

G03

摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术

G03F

图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备

G03F7/00

图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备

G03F7/26

感光材料的处理及其设备

G03F7/42

剥离或剥离剂

法律状态

2019-07-09 ：

授权

2016-12-14 ：

著录事项变更

号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101743486345
IPC(主分类) : G03F 7/42
专利申请号 : 2014103840148
变更事项 : 申请人
变更前 : 安格斯公司
变更后 : 恩特格里斯公司
变更事项 : 地址
变更前 : 美国马萨诸塞州
变更后 : 美国马萨诸塞州

2015-05-06 ：

专利申请权、专利权的转移

专利申请权的转移号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101714687757
IPC(主分类) : G03F 7/42
专利申请号 : 2014103840148
变更事项 : 申请人
变更前权利人 : 高级技术材料公司
变更后权利人 : 安格斯公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 美国康涅狄格州
变更后权利人 : 美国马萨诸塞州
登记生效日 : 20150416

2015-01-07 ：

实质审查的生效

号牌文件类型代码 : 1604
号牌文件序号 : 101594576150
IPC(主分类) : G03F 7/42
专利申请号 : 2014103840148
申请日 : 20060109

2014-12-10 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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