纳米图案形成方法，其中所使用的固化抗蚀剂膜和包含该抗蚀剂...
专利权的终止
摘要
纳米图案形成方法，其包括步骤：提供抗蚀剂膜(12)和在抗蚀剂膜(12)上形成图案。抗蚀剂膜(12)包括具有至少两个乙烯基的有机硅氧烷化合物、不同于该有机硅氧烷化合物的有机硅氧烷交联剂、催化剂和催化剂抑制剂。固化的抗蚀剂膜(12)包括含有至少两个乙烯基的有机硅氧烷化合物和不同于该有机硅氧烷化合物的有机硅氧烷交联剂在所述催化剂和催化剂抑制剂存在下的反应产物。制品(10)包括基底(14)，并且固化抗蚀剂膜(12)被布置在基底(14)上。由于在抗蚀剂膜(12)中存在催化剂抑制剂，抗蚀剂膜(12)可以在室温下被操作数小时而不会固化。同时，抗蚀剂膜(12)在具有商业价值的足够短的时间期间内固化。
基本信息
专利标题 ：
纳米图案形成方法，其中所使用的固化抗蚀剂膜和包含该抗蚀剂膜的制品
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101223476A
申请号 ：
CN200580051088.9
公开（公告）日 ：
2008-07-16
申请日 ：
2005-11-30
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
P·傅L·J·郭
申请人 ：
道康宁公司;密歇根大学董事会
申请人地址 ：
美国密歇根州
代理机构 ：
北京纪凯知识产权代理有限公司
代理人 ：
赵蓉民
优先权 ：
CN200580051088.9
主分类号 ：
G03F7/00
IPC分类号 ：
G03F7/00 G03F7/075 C09D183/04
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
法律状态
2017-01-18 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101697779044
IPC(主分类) : G03F 7/00
专利号 : ZL2005800510889
申请日 : 20051130
授权公告日 : 20111116
终止日期 : 20151130
号牌文件序号 : 101697779044
IPC(主分类) : G03F 7/00
专利号 : ZL2005800510889
申请日 : 20051130
授权公告日 : 20111116
终止日期 : 20151130
2011-11-16 ：
授权
2008-09-10 ：
实质审查的生效
2008-07-16 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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