一种耐刻蚀的正性光刻胶
实质审查的生效
摘要
本申请属于光刻胶技术领域，具体涉及一种耐刻蚀的正性光刻胶，包括如下重量份的各组分：酚醛树脂100份、PAC 10‑50份、固化剂5‑30份、溶剂450‑550份；所述正性光刻胶还包括100‑1000 ppm的催化剂。本申请的耐刻蚀的正性光刻胶，通过添加固化剂和催化剂保证光刻胶膜的顺利固化，并提高酚醛树脂的交联密度，提高光刻胶膜的致密性，提高光刻胶膜的抗渗透能力，避免酸分子渗透至光刻胶薄膜与基材之间，从而影响光刻胶薄膜与基材之间的粘结力，导致光刻胶容易开裂、脱落等。
基本信息
专利标题 ：
一种耐刻蚀的正性光刻胶
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114326304A
申请号 ：
CN202111644603.1
公开（公告）日 ：
2022-04-12
申请日 ：
2021-12-30
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
陈韦帆郑祥飞俞灏洋马骥
申请人 ：
苏州瑞红电子化学品有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市吴中区吴中经济开发区民丰路501号
代理机构 ：
北京维正专利代理有限公司
代理人 ：
李鑫伟
优先权 ：
CN202111644603.1
主分类号 ：
G03F7/004
IPC分类号 ：
G03F7/004 G03F7/039
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
法律状态
2022-04-29 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/004
申请日 : 20211230
申请日 : 20211230
2022-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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