刻蚀滚轮、刻蚀组件及刻蚀设备

授权

摘要

本申请提供了刻蚀滚轮、刻蚀组件及刻蚀设备，涉及硅片刻蚀装置技术领域。一种刻蚀滚轮，刻蚀滚轮的作用面具有多个周向设置的凸棱，相邻的两个凸棱之间形成有凹槽，凸棱为弯曲状结构。该刻蚀滚轮的凸棱为弯曲状，该结构使得凸棱在刻蚀过程中具有一定的携带酸液的能力，进而增加刻蚀滚轮的携带酸液的能力，降低对氢氟酸的需求量，从而可以降低酸的使用量，刻蚀效果也更加稳定。同时，弯曲结构能够提高凸棱的形变能力，使得刻蚀滚轮在与硅片等材料作用接触的过程中能够发生形变，可以有效弥补和抵消硅片在抖动、震动过程中的一些位移，进而可以保证刻蚀工序的背面刻蚀效果正常，降低失效片的产生。

基本信息

专利标题：

刻蚀滚轮、刻蚀组件及刻蚀设备

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202021001856.8

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-06-03

授权号：

CN211828707U

授权日：

2020-10-30

发明人：

谢毅周公庆马志强王璞

申请人：

通威太阳能（眉山）有限公司

申请人地址：

四川省眉山市东坡区修文镇进修路8号附1号

代理机构：

北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙)

代理人：

唐菲

优先权：

CN202021001856.8

主分类号：

H01L21/67

IPC分类号：

H01L21/67