一种提高刻蚀均匀性的等离子体刻蚀设备
授权
摘要
本实用新型提供一种提高刻蚀均匀性的等离子体刻蚀设备，包括反应腔，反应腔上设有线圈射频、进气口和抽气口，反应腔内设有惰性气体和用于放晶圆的载物平台，所述的载物平台底部通过支撑杆与外部的偏置射频装置连接；本设备还包括用于驱动载物平台旋转的旋转驱动机构，旋转驱动机构与所述的支撑杆连接。本实用新型通过将载物平台设置成可以旋转的，使得在工艺过程中，晶圆上的薄膜随载物平台一起旋转，使得薄膜的各个部分在载物平台上每个位置待的时间几乎相同，让薄膜各个部分的刻蚀速率得到补偿，从而实现对均匀性的控制。
基本信息
专利标题 ：
一种提高刻蚀均匀性的等离子体刻蚀设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922033385.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-21
授权号 ：
CN211455639U
授权日 ：
2020-09-08
发明人 ：
喻奎伦
申请人 ：
武汉衍熙微器件有限公司
申请人地址 ：
湖北省武汉市江夏区经济开发区藏龙岛梁山头村惠风同庆花园一期G17-S栋1-2层6室
代理机构 ：
湖北武汉永嘉专利代理有限公司
代理人 ：
王丹
优先权 ：
CN201922033385.2
主分类号 ：
H01J37/32
IPC分类号 ：
H01J37/32 H01L21/67
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的
H01J37/32
充气放电管
法律状态
2020-09-08 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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