本发明公开了一种等离子体刻蚀机及其刻蚀方法，包括刻蚀箱，刻蚀箱上固设有放射箱，放射箱内开设有放射腔，刻蚀箱内开设有刻蚀腔，刻蚀腔的上侧壁内开设有环形的连接腔，连接腔的上侧连通设有气箱，放射腔的周壁上固设有固定板，固定板的下端面上滑动连接有两个左右对称的弧形半滑套，半滑套的外周上缠绕有线圈，刻蚀腔的下端面上设有坩埚，坩埚的上端面上固设有能够拆卸的放置台，通过推塞，推动固定板上侧气体向下运动，保持两个半滑套之间刻蚀气体的浓度，通过保持气体浓度，间接的增加了本发明的工作效率，通过半滑套的半径变化，控制等离子的冲击量，实现不同要求的刻蚀，通过改版线圈的圈数，进而改变等离子密度，提高刻蚀效果。