本发明涉及微电子技术领域。本发明等离子体刻蚀装置包括反应室、设置在反应室上面的盖板以及设置在盖板中央安装孔内的喷嘴，其中喷嘴包括外轮廓为阶梯轴状的喷嘴本体，该喷嘴本体的大径部分与盖板密封连接，小径部分与盖板之间设有间隙，喷嘴本体的中心通孔为主气道，喷嘴本体伸出盖板部分设有与主气道连通的反应气体进气管，喷嘴本体上设有若干条连通主气道与所述间隙的辅气道。本发明的有益效果是：本发明中，由于其具有一个进气通道，具有两个出气通道，即主通道及喷射本全与盖板之间的间隙，这样气体在被分流后才进入到反应室内，所以有利于提高反应室内周围气体的密度，降低中央区域的气体密度，从而提高整体反应室内气体密度的均匀性。