一种淡化光刻图案边缘痕迹的方法
授权
摘要

本发明公开了一种淡化光刻图案边缘痕迹的方法,包括以下步骤:一、按照与印刷图案1:1的比例确定光刻专版定位纸上光刻图案的外形大小;二、将光刻图案向外扩边X1,扩边X1的大小由光刻专版定位纸预估的变形量的大小确定;三、在扩边X1的基础上再次扩边X2;四、对预留的扩边X2进行渐变处理;五、对步骤四渐变部分进行栅格化处理;六、对步骤五栅格化处理后的光刻图案进行光刻,形成母版,然后再拓片生成子版;七、将子版按照设计好的位置定位拼制到大版模压版上进行生产加工,加工工艺简单,极大的美化了视觉效果;可以允许有更大的移位偏差,避免套位漏底,提高了产品合格率。

基本信息
专利标题 :
一种淡化光刻图案边缘痕迹的方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN109270787A
申请号 :
CN201811242387.6
公开(公告)日 :
2019-01-25
申请日 :
2018-10-24
授权号 :
CN109270787B
授权日 :
2022-06-10
发明人 :
孙代东
申请人 :
青岛嘉颐泽印刷包装有限公司
申请人地址 :
山东省青岛市城阳区青霞路8号
代理机构 :
青岛海知誉知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
张晓琳
优先权 :
CN201811242387.6
主分类号 :
G03F1/42
IPC分类号 :
G03F1/42  G03F7/20  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1/00
用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1/38
具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F1/42
校准或对齐特征,例如掩膜基板上的校准标记
法律状态
2022-06-10 :
授权
2020-10-02 :
专利申请权、专利权的转移
专利申请权的转移IPC(主分类) : G03F 1/42
登记生效日 : 20200915
变更事项 : 申请人
变更前权利人 : 青岛嘉颐泽印刷包装有限公司
变更后权利人 : 青岛嘉泽包装有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 266109 山东省青岛市城阳区青霞路8号
变更后权利人 : 266107 山东省青岛市城阳区青霞路8号
2019-02-26 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 1/42
申请日 : 20181024
2019-01-25 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN109270787A.PDF
PDF下载
  • 联系电话
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 联系 Q Q
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 关注微信
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 收藏
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332