光学器件的形成方法

授权

摘要

提供一种形成光学器件的方法。所述方法包括：(a)在第一基片上施涂干膜，所述干膜包括：载体基片和在所述载体基片上的第一聚合物层；(b)通过包括在第一基片上涂敷液体组合物的方法在第一基片上形成第二聚合物层；和(c)使第一聚合物层和/或第二聚合物层形成图案。还提供形成具有光学功能的印刷线路板的方法。本发明在光电工业中找到具体的应用。

基本信息

专利标题：

光学器件的形成方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1808194A

申请号：

CN200510136164.8

公开（公告）日：

2006-07-26

申请日：

2005-12-22

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

J·G·谢尔纳特M·L·莫伊尼汉L·W·利特尔

申请人：

罗门哈斯电子材料有限公司

申请人地址：

美国马萨诸塞州

代理机构：

上海专利商标事务所有限公司

代理人：

沙永生

优先权：

CN200510136164.8

主分类号：

G02B6/138

IPC分类号：

G02B6/138 G02B6/02 G03F7/20 H05K3/00