图案形成结构及形成方法、器件及电光学装置、电子仪器

专利权的终止

摘要

本发明通过在形成图案时使微细图案和其它图案的各自高度相同，从而提供在含有图案的区域的上面形成平坦区域的贮格围堰结构体、图案形成方法及电光学装置、电子仪器。该发明是设有与由功能液形成的图案对应的凹部(35)的隔壁结构体，其特征在于，具备：与第1图案对应而设的第1凹部(55)、与第1图案连接而且与比第1图案宽度窄的第2图案对应而设的第2凹部(56)和在第1凹部(55)至少设1个以上的凸部(35)。

基本信息

专利标题：

图案形成结构及形成方法、器件及电光学装置、电子仪器

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1756456A

申请号：

CN200510107139.7

公开（公告）日：

2006-04-05

申请日：

2005-09-28

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

平井利充牛山敏宽

申请人：

精工爱普生株式会社

申请人地址：

日本东京

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司

代理人：

李香兰

优先权：

CN200510107139.7

主分类号：

H05K1/02

IPC分类号：

H05K1/02 H05K1/16 H05K3/10 H05B33/10 H01L25/00