气体泄漏探测器及制程气体监控

发明专利申请公布后的视为撤回

摘要

一种用于处理一个或多个平板显示器基板的等离子增强化学气相淀积系统的方法与装置，该装置包含一用来容纳气体的真空淀积腔、一用来分析该反应腔内气体并提供反馈的残余气体分析器以及一用来监控来自该气体分析器的反馈的控制器。一种用来辨识一用于处理一个或多个平板显示器基板的等离子增强化学气相淀积系统中的制程干扰的方法，该方法包括：测定作为时间函数的分压曲线的过去斜率；根据通过一残余气体分析器所测得的分压测量值来计算出一新的曲线斜率；比较该过去斜率与新斜率；以及发送一信号给一操作者。

基本信息

专利标题：

气体泄漏探测器及制程气体监控

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1766162A

申请号：

CN200510108742.7

公开（公告）日：

2006-05-03

申请日：

2005-09-29

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

塞缪尔·梁乌尔里希·A·邦内

申请人：

应用材料股份有限公司

申请人地址：

美国加利福尼亚州

代理机构：

上海新高专利商标代理有限公司

代理人：

楼仙英

优先权：

CN200510108742.7

主分类号：

C23C16/52

IPC分类号：

C23C16/52