含巯基的分子整流材料及其制备方法
专利权的终止
摘要
本发明属于分子电子学领域，具体涉及含巯基的分子整流材料及其制备方法。本发明提出的分子材料在结构上含推电子基团、吸电子基团、共轭π键以及末端巯基，该类材料在金表面能形成高度取向的单分子膜，能用来制作高整流比、高稳定性的分子整流器件。
基本信息
专利标题 ：
含巯基的分子整流材料及其制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1793127A
申请号 ：
CN200510110457.9
公开（公告）日 ：
2006-06-28
申请日 ：
2005-11-17
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
吕银祥蓝碧健徐伟
申请人 ：
复旦大学
申请人地址 ：
200433上海市邯郸路220号
代理机构 ：
上海正旦专利代理有限公司
代理人 ：
陆飞
优先权 ：
CN200510110457.9
主分类号 ：
C07D213/36
IPC分类号 ：
C07D213/36 C07D213/61 C07D213/72 H01L51/30
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C07
有机化学
C07D
杂环化合物
C07D213/00
杂环化合物，含六元环、不与其他环稠合、有1个氮原子作为仅有的杂环原子、环原子间或环原子与非环原子间有3个或更多个双键
C07D213/02
环原子间或环原子与非环原子间有3个双键
C07D213/04
在环氮原子与非环原子间没有键或只有氢或碳原子直接连在环氮原子上
C07D213/24
有取代的烃基连在环碳原子上
C07D213/36
被以单键连接的氮原子取代的基
法律状态
2013-01-16 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101381918091
IPC(主分类) : C07D 213/36
专利号 : ZL2005101104579
申请日 : 20051117
授权公告日 : 20090114
终止日期 : 20111117
号牌文件序号 : 101381918091
IPC(主分类) : C07D 213/36
专利号 : ZL2005101104579
申请日 : 20051117
授权公告日 : 20090114
终止日期 : 20111117
2009-01-14 ：
授权
2006-12-06 ：
实质审查的生效
2006-06-28 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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