一种步进扫描投影光刻机多总线时序同步控制方法

专利权人的姓名或者名称、地址的变更

摘要

本发明公开了一种步进扫描投影光刻机多总线时序同步控制方法，通过同步总线控制器为所有扫描曝光涉及的控制单元提供统一的时间基准。曝光控制软件通过工控机CPU板的VME总线接口把扫描参数传递给同步总线控制器，同步总线控制器按照工控机CPU板指定的参数，通过多总线的同步控制体系，实现对各个控制单元的精准同步控制。其有益效果是可严格控制各个同步信号的触发时间，从而实现了各个控制单元之间信号的实时和同步。

基本信息

专利标题：

一种步进扫描投影光刻机多总线时序同步控制方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1786825A

申请号：

CN200510111117.8

公开（公告）日：

2006-06-14

申请日：

2005-12-02

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

池峰陈勇辉韦学志裴辛哲

申请人：

上海微电子装备有限公司

申请人地址：

201203上海市张江高科技园区张东路1525号

代理机构：

上海智信专利代理有限公司

代理人：

王洁

优先权：

CN200510111117.8

主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

G03F7/20 G06F13/42

IPC结构图谱

G部——物理

G03

摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术

G03F

图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备

G03F7/00

图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备

G03F7/20

曝光及其设备

法律状态

2018-04-27 ：

专利权人的姓名或者名称、地址的变更

IPC(主分类) : G03F 7/20
变更事项 : 专利权人
变更前 : 上海微电子装备有限公司
变更后 : 上海微电子装备（集团）股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 201203 上海市张江高科技园区张东路1525号
变更后 : 201203 上海市张江高科技园区张东路1525号

2009-01-28 ：

授权

2006-08-09 ：

实质审查的生效

2006-06-14 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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