一种精密定位和调整工装
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
摘要
本发明公开了一种精密定位和调整工装,包括盖板(2)、垫片(5)、定位轴(6),还包括平板(1)、圆环(3)和Rz调整装置(4),圆环(3)由具有不同直径的阶梯状圆环组成并可通过其中一圆环的圆柱面及平面定位与平板(1)紧围安装在一起,Rz调整装置(4)安装在平板的槽面(104)中,定位轴(6)通过平板上销孔(101)定位及螺纹与盖板连接安装在平板上,盖板(2)通过螺纹连接安装在平板上,垫片(5)安装在定位轴(6)与平板(1)之间,盖板(2)、垫片(5)、定位轴(6)、和与它们连接最近的平板及圆环组成一套调节模块。有益作用是,保证了X、Y精度和Rz精度的定位精度。
基本信息
专利标题 :
一种精密定位和调整工装
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1794091A
申请号 :
CN200510112113.1
公开(公告)日 :
2006-06-28
申请日 :
2005-12-27
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
刘育张国韦袁志扬严天宏
申请人 :
上海微电子装备有限公司
申请人地址 :
201203上海市张江高科技园区张东路1525号
代理机构 :
上海智信专利代理有限公司
代理人 :
王洁
优先权 :
CN200510112113.1
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2017-12-22 :
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
IPC(主分类) : G02B 7/02
变更事项 : 专利权人
变更前 : 上海微电子装备有限公司
变更后 : 上海微电子装备(集团)股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 201203 上海市张江高科技园区张东路1525号
变更后 : 201203 上海市张江高科技园区张东路1525号
变更事项 : 专利权人
变更前 : 上海微电子装备有限公司
变更后 : 上海微电子装备(集团)股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 201203 上海市张江高科技园区张东路1525号
变更后 : 201203 上海市张江高科技园区张东路1525号
2009-06-24 :
授权
2006-08-23 :
实质审查的生效
2006-06-28 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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2、
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