一种在密钥污染后重新生成密钥的方法
授权
摘要
本发明公开了一种在密钥污染后重新生成密钥的方法，所述密钥由初始密钥经过多层级运算后生成，并且每层级的密钥根据前一层级的密钥生成；在确定当前层级的密钥受到污染时向当前层级的前一层级重新申请密钥，然后根据申请到的密钥重新生成当前层级的新密钥。本发明在中间层次密钥受到污染时，通过向前一层级申请密钥重新密钥来生成密钥，因而能够减小重新生成密钥的时间，降低时延；尤其在WLAN中，能够减少STA和认证服务器的交互次数，从而减少数据包丢失。
基本信息
专利标题 ：
一种在密钥污染后重新生成密钥的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1964253A
申请号 ：
CN200510115659.2
公开（公告）日 ：
2007-05-16
申请日 ：
2005-11-09
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
庄宏成杜汉美
申请人 ：
华为技术有限公司
申请人地址 ：
518129广东省深圳市龙岗区坂田华为总部办公楼
代理机构 ：
北京同达信恒知识产权代理有限公司
代理人 ：
黄志华
优先权 ：
CN200510115659.2
主分类号 ：
H04L9/08
IPC分类号 ：
H04L9/08 H04L9/12
法律状态
2010-07-21 ：
授权
2007-07-11 ：
实质审查的生效
2007-05-16 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
