光学玻璃、用于精密压模的预制体、生产该预制体的方法、光学...
授权
摘要
一种阿贝数(vd)为50至59的光学玻璃，具有不易与压模反应的性能、低温软化性能、极好的玻璃稳定性和高折射率，并且它适合于精密压模。该光学玻璃包括作为基本组分的B2O3和SiO2，并且B2O3和SiO2总量(B2O3+SiO2)为45至70mol％，和SiO2含量/B2O3含量的摩尔比(SiO2/B2O3)为0.1至0.5，该光学玻璃还包括，以mol％计，5至15％的La2O3，0.1至8％的Gd2O3，条件是La2O3和Gd2O3的总量是8％或更多，0至10％的Y2O3，3至18％的Li2O，条件是Li2O含量与B2O3和SiO2的总量的摩尔比[Li2O/(B2O3+SiO2)]大于0但不超过0.2，0.1至15％的ZnO，2至20％
基本信息
专利标题 ：
光学玻璃、用于精密压模的预制体、生产该预制体的方法、光学元件、和生产该元件的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1765791A
申请号 ：
CN200510116576.5
公开（公告）日 ：
2006-05-03
申请日 ：
2005-09-29
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
春日善子邹学禄
申请人 ：
HOYA株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
范赤
优先权 ：
CN200510116576.5
主分类号 ：
C03C3/068
IPC分类号 ：
C03C3/068 C03C3/093
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C03
玻璃；矿棉或渣棉
C03C
玻璃、釉或搪瓷釉的化学成分；玻璃的表面处理；由玻璃、矿物或矿渣制成的纤维或细丝的表面处理；玻璃与玻璃或与其他材料的接合
C03C3/00
玻璃组成
C03C3/04
含二氧化硅
C03C3/062
用小于40的二氧化硅
C03C3/064
含硼
C03C3/068
含稀土元素
法律状态
2008-04-02 ：
授权
2006-09-13 ：
实质审查的生效
2006-05-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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