用于制造液晶显示器的设备
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摘要
用于制造液晶显示器的设备。公开了一种用于制造液晶显示器的设备的曝光结构，以在调整曝光处理中将基板调整到适当温度、减少周期时间并使占用面积最小，其包括：中转输送机，用于运送基板；第一机械手，被布置在所述中转输送机的基板装载侧，用于接收涂覆有光刻胶的基板并将该基板运送到所述中转输送机；软烤热板(SHP)，被布置在所述中转输送机的基板卸载侧，用于从所述基板去除溶剂；冷却板，用于降低去除了溶剂的基板的温度；缓冲器，用于临时存储经温度降低的基板；第二机械手，被布置在所述中转输送机、所述SHP、所述冷却板与所述缓冲器的基板装载侧之间，用于装载和/或卸载所述基板；温度控制单元，用于调整从所述缓冲器卸载的所述基板的温度；曝光单元；以及第三机械手，被布置在所述缓冲器的基板卸载侧、所述温度控制单元与所述曝
基本信息
专利标题 ：
用于制造液晶显示器的设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1794094A
申请号 ：
CN200510132182.9
公开（公告）日 ：
2006-06-28
申请日 ：
2005-12-22
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
金龙勋郭相旻徐真愚
申请人 ：
LG.菲利浦LCD株式会社
申请人地址 ：
韩国首尔
代理机构 ：
北京三友知识产权代理有限公司
代理人 ：
黄纶伟
优先权 ：
CN200510132182.9
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 H01L21/027 G02F1/133
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2010-02-24 ：
授权
2006-08-23 ：
实质审查的生效
2006-06-28 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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2、
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