用于制造平板显示器件的装置和方法
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摘要

本发明公开了一种用于制造平板显示器的方法和装置。通过采用软模而不采用光刻工序的构图工序构图薄膜层。在基板上顺序形成薄膜层和抗蚀剂。通过采用软模向抗蚀剂施加压力形成预定抗蚀剂图案。该抗蚀剂具有大于或等于2D的偶极距μ值,或者具有小于6(cal/cm3)1/2或者大于11(cal/cm3)1/2的溶解参数值。

基本信息
专利标题 :
用于制造平板显示器件的装置和方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1877452A
申请号 :
CN200510132211.1
公开(公告)日 :
2006-12-13
申请日 :
2005-12-22
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
金珍郁
申请人 :
LG.菲利浦LCD株式会社
申请人地址 :
韩国首尔
代理机构 :
北京律诚同业知识产权代理有限公司
代理人 :
徐金国
优先权 :
CN200510132211.1
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  H01L21/027  G03F7/26  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2009-09-16 :
授权
2007-02-14 :
实质审查的生效
2006-12-13 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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