放射性污染金属去污工艺及去污剂

专利权的视为放弃

摘要

本发明涉及一种去除物质表面放射性污染的方法及其去污剂。该方法采用回路循环法或槽式浸泡法对放射性污染金属进行去污作业，然后进行漂洗、干燥，在去污作业过程中所用的去污剂配方为硝酸0.1～6.0mol/L、(NH₄)₂Ce(NO₃)₆0.001～1.00mol/L，利用去离子水配制；去污温度为1～40℃，去污持续时间0.1～48.0h，在采用回路循环法时去污液循环流速为0.5～5.00m/s。其工艺更安全、更可靠，去污系数更高，去污速率更快，二次废液量更小。

基本信息

专利标题：

放射性污染金属去污工艺及去污剂

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1988051A

申请号：

CN200510134673.7

公开（公告）日：

2007-06-27

申请日：

2005-12-19

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

马鹏勋任宪文张涛革

申请人：

中国辐射防护研究院

申请人地址：

030006山西省太原市学府街270号

代理机构：

核工业专利中心

代理人：

任晓航

优先权：

CN200510134673.7

主分类号：

G21F9/00

IPC分类号：

G21F9/00