一种去除金属表面放射性污染的电解去污方法
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摘要
本发明涉及一种去除金属表面放射性污染的电解去污方法。该方法将待去污部件接电源阳极，去污部件接电源阴极，向去污装置内加入电解液后进行电解去污。所采用的电解液配方为质量百分比为3％～10％的HNO3，质量百分比为5％～20％的NaNO3，其余为水。电解时电流密度为0.1～0.6A/cm2，电解温度为20～50℃。本方法可广泛用于核设施金属表面放射性污染的电解去污，使核设施退役时产生的大量金属废物得以降级或再循环、再利用。
基本信息
专利标题 ：
一种去除金属表面放射性污染的电解去污方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1986904A
申请号 ：
CN200510135004.1
公开（公告）日 ：
2007-06-27
申请日 ：
2005-12-23
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
董毅漫刘文仓任宪文
申请人 ：
中国辐射防护研究院
申请人地址 ：
030006山西省太原市学府街270号
代理机构 ：
核工业专利中心
代理人 ：
任晓航
优先权 ：
CN200510135004.1
主分类号 ：
C25F1/00
IPC分类号 ：
C25F1/00 G21F9/00
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C25
电解或电泳工艺；其所用设备
C25F
电解法除去物体上材料的方法；其所用的设备
C25F1/00
电解法清理、除油、强浸蚀或除氧化皮
法律状态
2010-01-06 ：
授权
2007-08-22 ：
实质审查的生效
2007-06-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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