选择纯化单萜烯以除去含氧物质
发明专利申请公布后的驳回
摘要
本发明涉及通过从单萜烯中分离出含氧杂质化合物制备作为成孔剂在电子器件中用于多孔二氧化硅介电膜沉积的单萜烯的方法，包括：提供包含含氧杂质化合物的纯净单萜烯；提供活化硅胶制备色谱柱；使包含含氧杂质化合物的纯净单萜烯与柱接触；含氧杂质化合物被保留在柱上；以及从柱上回收去除了含氧杂质化合物的纯净单萜烯。
基本信息
专利标题 ：
选择纯化单萜烯以除去含氧物质
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1800125A
申请号 ：
CN200510138062.X
公开（公告）日 ：
2006-07-12
申请日 ：
2005-11-09
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
H·R·博文
申请人 ：
气体产品与化学公司
申请人地址 ：
美国宾夕法尼亚州
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
韦欣华
优先权 ：
CN200510138062.X
主分类号 ：
C07C35/08
IPC分类号 ：
C07C35/08 C07C29/74
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C07
有机化学
C07C
无环或碳环化合物
C07C35/00
至少有1个羟基或氧-金属基连接在除六元芳环以外的环的碳原子上的化合物
C07C35/02
单环的
C07C35/08
含六元环的
法律状态
2012-03-14 ：
发明专利申请公布后的驳回
号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101298328046
IPC(主分类) : C07C 35/08
专利申请号 : 200510138062X
公开日 : 20060712
号牌文件序号 : 101298328046
IPC(主分类) : C07C 35/08
专利申请号 : 200510138062X
公开日 : 20060712
2006-09-06 ：
实质审查的生效
2006-07-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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