透明导电性膜及触摸屏
授权
摘要
本发明的透明导电性膜在透明膜基材的一个侧面有硬涂层，进而在该硬涂层上有通过干法工艺形成的10～300nm厚的SiOX膜，在透明膜基材的另一个侧面有20～35nm厚的透明导电性薄膜。所述的透明导电性膜具有良好的耐湿热性，笔输入耐久性优异，在冲压加工时能抑制裂纹的产生，良好的耐湿热性，即使在高温高湿的环境下，也能抑制膨胀或卷曲的产生。
基本信息
专利标题 ：
透明导电性膜及触摸屏
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101010601A
申请号 ：
CN200580028853.5
公开（公告）日 ：
2007-08-01
申请日 ：
2005-09-27
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
梨木智刚菅原英男安藤豪彦吉武秀敏
申请人 ：
日东电工株式会社
申请人地址 ：
日本大阪府
代理机构 ：
北京集佳知识产权代理有限公司
代理人 ：
苗堃
优先权 ：
CN200580028853.5
主分类号 ：
G02B1/10
IPC分类号 ：
G02B1/10 B32B9/00 C23C14/06 G06F3/041 H01B5/14
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B1/00
按制造材料区分的光学元件；用于光学元件的光学涂层
G02B1/10
对光学元件表面涂覆或对它进行表面处理后所产生的光学涂层
法律状态
2008-12-10 ：
授权
2007-09-26 ：
实质审查的生效
2007-08-01 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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