透明导电性膜的制造方法
公开
摘要
本发明提供制造即使包含金属纳米线、导电各向异性也小的透明导电性膜的方法。本发明的透明导电性膜的制造方法包括：涂布工序，该工序中一边运送长条状的基材，一边在该基材上涂布包含金属纳米线的透明导电层形成用组合物而形成涂布层；以及干燥工序，该工序中使该涂布层干燥而在该基材上形成透明导电层，该基材的表面的平均倾斜角θa为0.5°以上。
基本信息
专利标题 ：
透明导电性膜的制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114467156A
申请号 ：
CN202080069186.X
公开（公告）日 ：
2022-05-10
申请日 ：
2020-09-28
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
长濑纯一长原一平
申请人 ：
日东电工株式会社
申请人地址 ：
日本大阪
代理机构 ：
永新专利商标代理有限公司
代理人 ：
吴倩
优先权 ：
CN202080069186.X
主分类号 ：
H01B13/30
IPC分类号 ：
H01B13/30 H01B13/00 H01B5/14
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01B
电缆；导体；绝缘体；导电、绝缘或介电材料的选择
H01B13/00
制造导体或电缆制造的专用设备或方法
H01B13/30
干燥；浸渍
法律状态
2022-05-10 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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