透明导电膜的制造方法
授权
摘要
本发明的目的是提供一种不仅具有良好的光学特性和电特性、而且几乎没有面内的电阻值各向异性的无色透明导电膜。本发明是一种透明导电膜的制造方法，所述透明导电膜具有含有金属纳米线和粘合剂树脂的导电层，所述制造方法的特征在于，包含以下工序：调制含有所述金属纳米线及粘合剂树脂的涂布液的调制工序；和、在透明基材的一个主表面上涂布所述涂布液的涂布工序，在所述涂布工序中采用棒涂方式的印刷方法，所述棒涂方式通过形成有节距(P)与深度(H)的比率P/H为5～30的沟槽的棒进行。
基本信息
专利标题 ：
透明导电膜的制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN112930575A
申请号 ：
CN202080005802.5
公开（公告）日 ：
2021-06-08
申请日 ：
2020-05-29
授权号 ：
CN112930575B
授权日 ：
2022-06-07
发明人 ：
山木繁
申请人 ：
昭和电工株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京市中咨律师事务所
代理人 ：
李照明
优先权 ：
CN202080005802.5
主分类号 ：
H01B13/00
IPC分类号 ：
H01B13/00 H01B5/14
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01B
电缆；导体；绝缘体；导电、绝缘或介电材料的选择
H01B13/00
制造导体或电缆制造的专用设备或方法
法律状态
2022-06-07 ：
授权
2021-06-25 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01B 13/00
申请日 : 20200529
申请日 : 20200529
2021-06-08 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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