共聚物及形成上层膜用组合物
授权
摘要
本发明形成一种上层膜，其不与光致抗蚀剂膜引起互混，可在抗蚀剂上形成覆膜，不溶出于浸液曝光时的介质而能维持稳定覆膜，进而，在施实非浸液曝光的干式曝光时不造成图案形状劣化，且容易溶解于碱显影液。其特征为含有至少一种选自具有下述式(1)表示的基团的重复单元、具有下述式(2)表示的基团的重复单元、及具有羧基的重复单元中的重复单元(I)、与具有磺基的重复单元(II)，通过凝胶渗透色谱法测定的重均分子量为2,000－100,000。式中，R1及R2的至少一方为碳数1－4的氟化烷基；式(2)中，R3为碳数1－20的氟化烷基。
基本信息
专利标题 ：
共聚物及形成上层膜用组合物
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101031597A
申请号 ：
CN200580033001.5
公开（公告）日 ：
2007-09-05
申请日 ：
2005-09-28
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
千叶隆木村彻宇高友广中川大树榊原宏和堂河内宽
申请人 ：
捷时雅株式会社
申请人地址 ：
日本东京
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人 ：
陈昕
优先权 ：
CN200580033001.5
主分类号 ：
C08F220/10
IPC分类号 ：
C08F220/10 G03F7/11 H01L21/027
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C08
有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物
C08F
仅用碳-碳不饱和键反应得到的高分子化合物
C08F220/00
具有1个或更多不饱和脂族基化合物的共聚物，每个不饱和脂族基只有1个碳-碳双键，并且只有1个是仅以羧基或它的盐、酐、酯、酰胺、酰亚胺或腈为终端
C08F220/02
具有少于10个碳原子的一元羧酸；它的衍生物
C08F220/10
酯
法律状态
2010-04-14 ：
授权
2007-10-31 ：
实质审查的生效
2007-09-05 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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