使用嵌段共聚物形成精细图案的方法

授权

摘要

本发明提供了一种形成精细图案的方法，该方法通过使用具有优异蚀刻选择性的嵌段共聚物而能够最小化LER和LWR，从而形成高质量纳米图案。本发明提供了一种嵌段共聚物，其包含具有由以下化学式1表示的重复单元的第一嵌段和具有由以下化学式2表示的重复单元的第二嵌段：[化学式1][化学式2]其中R₁‑R₅、X₁‑X₅、l、n和m如权利要求1中所定义。

基本信息

专利标题：

使用嵌段共聚物形成精细图案的方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN107868194A

申请号：

CN201710869088.4

公开（公告）日：

2018-04-03

申请日：

2017-09-22

授权号：

CN107868194B

授权日：

2022-04-05

发明人：

咸珍守郑连植金善英许允衡李光国宋承垣

申请人：

SK新技术株式会社;韩国科学技术院

申请人地址：

韩国首尔

代理机构：

北京路浩知识产权代理有限公司

代理人：

王朋飞

优先权：

CN201710869088.4

主分类号：

C08F293/00

IPC分类号：

C08F293/00 C08F220/14 C08F212/08 C08F212/14 G03F7/00 G03F7/09 G03F7/16 G03F7/40 G03F7/42 H01L21/027 H01L21/033 H01L21/308 H01L21/311 H01L21/3213

IPC结构图谱

C部——化学；冶金

C08

有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物

C08F

仅用碳-碳不饱和键反应得到的高分子化合物

C08F293/00

在高分子上聚合反应所得到的高分子化合物，该起始的高分子只在一端或两端具有能导致形成新聚合物链的基团

法律状态

2022-04-05 ：

授权

2019-07-26 ：

实质审查的生效

IPC(主分类) : C08F 293/00
申请日 : 20170922

2018-04-03 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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