用于抛光贵金属的具有聚合物添加剂的化学机械抛光组合物
专利权的终止
摘要
本发明提供一种抛光基板的方法，包括使包含(a)选自研磨剂、抛光垫及其组合的抛光成分、(b)氧化剂、(c)含环氧乙烷的聚合物及(d)液体载体的化学机械抛光系统与在基板表面上包括贵金属的基板，并使用该化学机械抛光系统研磨至少一部分该贵金属以抛光该基板。
基本信息
专利标题 ：
用于抛光贵金属的具有聚合物添加剂的化学机械抛光组合物
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101040021A
申请号 ：
CN200580034854.0
公开（公告）日 ：
2007-09-19
申请日 ：
2005-10-11
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
弗朗西斯科·德雷吉西索罗本杰明·拜尔
申请人 ：
卡伯特微电子公司
申请人地址 ：
美国伊利诺伊州
代理机构 ：
北京市柳沈律师事务所
代理人 ：
宋莉
优先权 ：
CN200580034854.0
主分类号 ：
C09G1/02
IPC分类号 ：
C09G1/02 H01L21/321
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C09
染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用
C09G
抛光组合物；滑雪屐蜡
C09G1/00
抛光组合物
C09G1/02
含有磨料或研磨剂
法律状态
2021-01-29 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : C09G 1/02
申请日 : 20051011
授权公告日 : 20120620
终止日期 : 20191011
申请日 : 20051011
授权公告日 : 20120620
终止日期 : 20191011
2012-06-20 ：
授权
2007-11-14 ：
实质审查的生效
2007-09-19 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
