甲硅烷基烷氧基甲基卤化物的制备方法
专利权的终止
摘要

一种高产率制备通式R1R2R3Si-R4-O-CH2X代表的甲硅烷基烷氧基甲基卤化物的方法,其中R1、R2和R3为烷基、环烷基、芳基或卤原子,R4为具有1-10个碳原子的二价烃基,和X为卤原子,该方法包括使(a)通式R1R2R3Si-R4-OH代表的甲硅烷基醇化合物,其中R1、R2、R3和R4如上定义,与(b)甲醛或其聚合物和(c)卤代硅烷反应。

基本信息
专利标题 :
甲硅烷基烷氧基甲基卤化物的制备方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN101039949A
申请号 :
CN200580034960.9
公开(公告)日 :
2007-09-19
申请日 :
2005-09-28
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
脇田启二
申请人 :
陶氏康宁东丽株式会社
申请人地址 :
日本东京
代理机构 :
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人 :
张钦
优先权 :
CN200580034960.9
主分类号 :
C07F7/08
IPC分类号 :
C07F7/08  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C07
有机化学
C07F
含除碳、氢、卤素、氧、氮、硫、硒或碲以外的其他元素的无环,碳环或杂环化合物
C07F7/00
含周期表第4或14族元素的化合物
C07F7/02
硅化合物
C07F7/08
具有1个或更多的C-Si键的化合物
法律状态
2016-11-16 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101687376290
IPC(主分类) : C07F 7/08
专利号 : ZL2005800349609
申请日 : 20050928
授权公告日 : 20150506
终止日期 : 20150928
2015-05-06 :
授权
2007-11-14 :
实质审查的生效
2007-09-19 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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