带有顶部参考腔的压力传感器
发明专利申请公布后的驳回
摘要

一种压力传感器,包括具有底面和顶面的硅膜片。底面用本领域技术人员所熟知的方法形成。第一层被形成并图案化在膜片的顶部表面,第一层的面积比膜片的面积大。第二层被形成并图案化在第一层上方。第二层的面积比第一层的面积大。孔形成在第二层中,用于通过本领域技术人员所熟知的方法除去第一层。第三层被形成并图案化在第二层上方。第三层密封第二层中的孔,从而在膜片的顶部表面形成具有参考压力的密封腔。在操作期间,介质被施加到膜片的底面,其中介质压力相对于密封在膜片顶部的参考压力被压力传感器感测。

基本信息
专利标题 :
带有顶部参考腔的压力传感器
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN101052864A
申请号 :
CN200580035413.2
公开(公告)日 :
2007-10-10
申请日 :
2005-10-18
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
C·E·斯图尔特
申请人 :
霍尼韦尔国际公司
申请人地址 :
美国新泽西州
代理机构 :
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 :
张雪梅
优先权 :
CN200580035413.2
主分类号 :
G01L9/00
IPC分类号 :
G01L9/00  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01L
测量力、应力、转矩、功、机械功率、机械效率或流体压力
G01L9/00
用电或磁的压敏元件测量流体或流动固体材料的稳定或准稳定压力;用电或磁的方法传递或指示机械压敏元件的位移,该机械压敏元件是用来测量流体或流动固体材料的稳定或准稳定压力的
法律状态
2013-12-18 :
发明专利申请公布后的驳回
号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101680854293
IPC(主分类) : G01L 9/00
专利申请号 : 2005800354132
申请公布日 : 20071010
2007-12-12 :
实质审查的生效
2007-10-10 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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