单乙烯基芳烃共轭二烯烃嵌段共聚物和单乙烯基芳烃丙烯酸酯共...
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
具有低的雾度和增加的模量和冲击强度的聚合物共混物由苯乙烯丁二烯嵌段(SBC)共聚物和至少62.5wt％的苯乙烯甲基丙烯酸甲酯共聚物(SMMA)组成。SBC包括30－40，优选38wt％的丁二烯。在第一个实施方案中，SBC包括至少一种递变嵌段。在第二个实施方案中，SBC包括至少双峰；其中苯乙烯占小于25wt％的至少一种递变嵌段；重量比为1∶2到2∶1的苯乙烯的第一和第二加料；在递变嵌段之前的由在嵌段共聚物内的苯乙烯的第一加料形成的单嵌段的分子量范围为25,000－65,000g/mol；和嵌段共聚物的粘连力小于175磅。SMMA含有至少55wt％的苯乙烯和不大于45wt％的甲基丙烯酸甲酯。该共混物的雾度小于约2.0％，弯曲模量大于280000磅/英寸2，根据ASTM D5420测量的Gardner冲击强度为5ft－1bs/in，优选大于约20ft－1bs/in，和拉伸伸长率大于20％。
基本信息
专利标题 ：
单乙烯基芳烃共轭二烯烃嵌段共聚物和单乙烯基芳烃丙烯酸酯共聚物的聚合物共混物
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101052680A
申请号 ：
CN200580037404.7
公开（公告）日 ：
2007-10-10
申请日 ：
2005-11-03
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
D·R·福斯C·J·宗戈洛维茨二世J·D·威尔基
申请人 ：
诺瓦化学公司
申请人地址 ：
美国宾夕法尼亚
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人 ：
任宗华
优先权 ：
CN200580037404.7
主分类号 ：
C08L53/02
IPC分类号 ：
C08L53/02
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C08
有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物
C08L
高分子化合物的组合物
C08L53/00
嵌段共聚物的组合物，该共聚物至少有1个聚合物链区是仅由碳-碳不饱和键反应得到的；此种聚合物衍生物的组合物
C08L53/02
乙烯基芳族单体与共轭二烯的
法律状态
2010-08-18 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
号牌文件类型代码 : 1603
号牌文件序号 : 101004076793
IPC(主分类) : C08L 53/02
专利申请号 : 2005800374047
公开日 : 20071010
号牌文件序号 : 101004076793
IPC(主分类) : C08L 53/02
专利申请号 : 2005800374047
公开日 : 20071010
2007-12-05 ：
实质审查的生效
2007-10-10 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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