用于对基片进行处理的方法和装置以及用于这种处理作业的喷嘴单元

用于对基片进行处理的方法和装置以及用于这种处理作业的喷嘴...

专利权人的姓名或者名称、地址的变更

摘要

本发明涉及一种对基片进行处理的方法，具有以下方法步骤：通过喷嘴单元在有待处理的基片的局部表面区域上形成液膜，其中该喷嘴单元具有至少一个纵向伸展的喷嘴装置以及与该喷嘴装置相邻布置的超声波换能器装置或者说兆赫声波换能器装置；使所述超声波转换器装置的至少一部分与所述液膜相接触，并且用所述超声波换能器装置将超声波加入到所形成的液膜中。

基本信息

专利标题：

用于对基片进行处理的方法和装置以及用于这种处理作业的喷嘴单元

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN101073140A

申请号：

CN200580037690.7

公开（公告）日：

2007-11-14

申请日：

2005-10-28

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

K·布兰兹P·德雷斯M·索瓦T·盖林

申请人：

施蒂格哈马技术股份公司

申请人地址：

德国斯台恩费尔斯

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司

代理人：

曹若

优先权：

CN200580037690.7

主分类号：

H01L21/00

IPC分类号：

H01L21/00

IPC结构图谱

H部——电学

H01

基本电气元件

H01L

半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件

H01L21/00

专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备

法律状态

2013-01-30 ：

专利权人的姓名或者名称、地址的变更

号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101507796734
IPC(主分类) : H01L 21/00
专利号 : ZL2005800376907
变更事项 : 专利权人
变更前 : 哈马技术APE两合公司
变更后 : 聚斯微技术光掩膜设备有限责任两合公司
变更事项 : 地址
变更前 : 德国斯台恩费尔斯
变更后 : 德国施泰嫩费尔斯

2012-09-26 ：

专利申请权、专利权的转移

专利权的转移号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101454168937
IPC(主分类) : H01L 21/00
专利号 : ZL2005800376907
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 哈马技术股份公司
变更后权利人 : 辛古勒斯技术股份公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 德国斯台恩费尔斯
变更后权利人 : 德国美因河畔卡尔
登记生效日 : 20120828

2012-09-26 ：

专利申请权、专利权的转移

专利权的转移号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101454168938
IPC(主分类) : H01L 21/00
专利号 : ZL2005800376907
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 辛古勒斯技术股份公司
变更后权利人 : 哈马技术APE两合公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 德国美因河畔卡尔
变更后权利人 : 德国斯台恩费尔斯
登记生效日 : 20120828

2012-09-26 ：

专利权人的姓名或者名称、地址的变更

号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101454168936
IPC(主分类) : H01L 21/00
专利号 : ZL2005800376907
变更事项 : 专利权人
变更前 : 施蒂格哈马技术股份公司
变更后 : 哈马技术股份公司
变更事项 : 地址
变更前 : 德国斯台恩费尔斯
变更后 : 德国斯台恩费尔斯

2009-09-09 ：

授权

2008-01-09 ：

实质审查的生效

2007-11-14 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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