流体紫外线透镜
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
一种用于紫外线辐射的光学元件(100)，其包括含有第一流体(104)和与所述第一流体(104)不相混合的第二流体(106)。所述第一和第二流体(104，106)在与所述光学元件的光轴交叉地延伸的弯月面(114)上相互接触。所述流体中的至少一种相对于诸如深紫外线辐射的紫外线辐射基本是透明的。所述光学元件(100)可以是透镜或反射镜，并且可以具有可调光学特性。可以将所述光学元件用于诸如数据载体的母盘制作工具、激光系统或光刻系统的光学系统中。所述流体之一可以是气体。
基本信息
专利标题 ：
流体紫外线透镜
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101057161A
申请号 ：
CN200580039167.8
公开（公告）日 ：
2007-10-17
申请日 ：
2005-11-09
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
阿德里安纳斯·森佩尔伯纳德斯·H.·W.·亨德里克斯库恩·T.·H.·F.·利登巴姆施泰因·凯珀
申请人 ：
皇家飞利浦电子股份有限公司
申请人地址 ：
荷兰艾恩德霍芬
代理机构 ：
永新专利商标代理有限公司
代理人 ：
王英
优先权 ：
CN200580039167.8
主分类号 ：
G02B3/14
IPC分类号 ：
G02B3/14 G02B26/02 G02B13/14 G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B3/00
简单或复合透镜
G02B3/12
充入液体或抽空的透镜
G02B3/14
可变焦距的
法律状态
2008-08-27 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
2007-10-17 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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