具有低聚或聚合敏化剂的平版印版前体
专利权的终止
摘要
平版印版前体，其包括(a)具有亲水性表面的平版底物，和(b)在亲水性表面上的辐射－感光涂层，其包含(i)一种或多种单体和/或低聚物和/或聚合物，每个都包含至少一个易进行自由基聚合的烯键式不饱和基团，(ii)至少一种敏化剂，和(iii)至少一种共引发剂，其能够与敏化剂(ii)一起形成自由基；其特征为，至少一种敏化剂是包括以下结构单元(通式(I))的低聚或者聚合化合物，其中π1是芳族或杂芳族单元或者两者的结合，使得共轭π－体系存在于结构(I)中的两个基团Z之间，每个Z独立地表示杂原子，每个R1和R2独立地选自卤素原子、烷基、芳基、烷基芳基或芳烷基、基团－NR3R4和基团－OR5，每个R3、R4和R5独立地选自烷基、芳基、烷基芳基和芳烷基，a和b独立地表示0或1－4的整数，n的值大于1，和AS是脂
基本信息
专利标题 ：
具有低聚或聚合敏化剂的平版印版前体
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101061433A
申请号 ：
CN200580039486.9
公开（公告）日 ：
2007-10-24
申请日 ：
2005-11-11
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
B·施特雷梅尔H·鲍曼U·德瓦斯D·彼得施A·德拉贝尔M·默萨尔
申请人 ：
柯达彩色绘图有限责任公司
申请人地址 ：
德国奥斯特罗德
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
段晓玲
优先权 ：
CN200580039486.9
主分类号 ：
G03F7/031
IPC分类号 ：
G03F7/031 G03F7/029
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
G03F7/027
具有碳—碳双键的非高分子的可光聚合的化合物，例如，乙烯化合物
G03F7/028
含有增光敏物质的，例如，感光刺激剂
G03F7/031
G03F7/029组不包括的有机化合物
法律状态
2014-12-31 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101594121590
IPC(主分类) : G03F 7/031
专利号 : ZL2005800394869
申请日 : 20051111
授权公告日 : 20101027
终止日期 : 20131111
号牌文件序号 : 101594121590
IPC(主分类) : G03F 7/031
专利号 : ZL2005800394869
申请日 : 20051111
授权公告日 : 20101027
终止日期 : 20131111
2010-10-27 ：
授权
2007-12-19 ：
实质审查的生效
2007-10-24 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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