聚合物及其制备方法、光学薄膜和图象显示器
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
一种具有良好的耐热性和良好的光学性能的具有式(1)的重复单元的光学薄膜，其中X代表含有单环芳香环或稠合多环芳香环的二价连接基团；Y代表亚甲基、亚乙基或亚乙烯基；并且X由式(2)表示，其中R1和R2各自代表卤原子、烷基、烷氧基或芳基；并且m和n各自代表0－4。
基本信息
专利标题 ：
聚合物及其制备方法、光学薄膜和图象显示器
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101068853A
申请号 ：
CN200580039941.5
公开（公告）日 ：
2007-11-07
申请日 ：
2005-09-22
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
相木康弘石塚孝宏
申请人 ：
富士胶片株式会社
申请人地址 ：
日本东京
代理机构 ：
永新专利商标代理有限公司
代理人 ：
于辉
优先权 ：
CN200580039941.5
主分类号 ：
C08G73/22
IPC分类号 ：
C08G73/22 H05K1/03 G03F7/023 C09D179/08 G03F7/039
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C08
有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物
C08G
用碳-碳不饱和键以外的反应得到的高分子化合物
C08G73/00
不包括在C08G12/00到C08G71/00组内的，在高分子主链中形成含氮的键合，有或没有氧或碳键合反应得到的高分子化合物
C08G73/06
在高分子主链中有含氮杂环的缩聚物；聚酰肼；聚酰胺酸或类似的聚酰亚胺母体
C08G73/22
聚苯并唑
法律状态
2010-03-24 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
2008-01-02 ：
实质审查的生效
2007-11-07 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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