光学薄膜及其应用、光学薄膜的制造方法
专利权的视为放弃
摘要
本发明提供一种光学薄膜，其特征在于，是通过在透明高分子薄膜层上涂布聚氨基甲酸酯系树脂溶液形成粘附层并通过在该粘附层上涂布非液晶聚合物形成双折射层，从而作成层叠薄膜，进而对该层叠薄膜实施拉伸处理而成。由此，本发明提供一种透明高分子薄膜与双折射层剥离的可能性减少且双折射层的相位差的偏差少的光学薄膜。
基本信息
专利标题 ：
光学薄膜及其应用、光学薄膜的制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101105610A
申请号 ：
CN200710110326.X
公开（公告）日 ：
2008-01-16
申请日 ：
2005-11-18
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
村上奈穗吉见裕之
申请人 ：
日东电工株式会社
申请人地址 ：
日本大阪府
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
朱丹
优先权 ：
CN200710110326.X
主分类号 ：
G02F1/13363
IPC分类号 ：
G02F1/13363
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器
G02F1/00
控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如，转换、选通或调制；非线性光学
G02F1/01
对强度、相位、偏振或颜色的控制
G02F1/13
基于液晶的，例如单位液晶显示单元
G02F1/133
构造上的设备；液晶单元的工作；电路装置
G02F1/1333
构造上的设备
G02F1/1334
基于聚合物分散型液晶，例如微囊密封型液晶的
G02F1/13363
双折射元件，例如用于光学补偿的
法律状态
2010-01-20 ：
专利权的视为放弃
2008-03-05 ：
实质审查的生效
2008-01-16 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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