光学薄膜的制造方法、和使用由这样的制造方法制得的光学薄膜...
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要

本发明提供一种具有优异耐久性、有助于薄型化、可以防止热不均匀、且可以良好防止黑色显示下的漏光的光学薄膜的制造方法。该制造方法包括:将含有液晶材料的涂布液涂布于取向基材上的工序;使液晶材料取向而在基材表面形成第一光学补偿层的工序;将第一光学补偿层转印至透明保护薄膜的表面的工序;在透明保护薄膜的表面层合偏振镜的工序;以及在第一光学补偿层的表面形成第二光学补偿层的工序。该偏振镜与该第一光学补偿层互相配置于透明保护薄膜的相反侧。第一光学补偿层与第二光学补偿层是以各自的慢轴与偏振镜的吸收轴所成角度在特定范围内的方式形成。

基本信息
专利标题 :
光学薄膜的制造方法、和使用由这样的制造方法制得的光学薄膜的图像显示装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN101133347A
申请号 :
CN200680006472.1
公开(公告)日 :
2008-02-27
申请日 :
2006-01-30
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
梅本清司川本育郎武田健太郎
申请人 :
日东电工株式会社
申请人地址 :
日本大阪府
代理机构 :
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 :
李香兰
优先权 :
CN200680006472.1
主分类号 :
G02B5/30
IPC分类号 :
G02B5/30  B05D7/24  B32B7/02  B32B27/28  B32B27/34  G02F1/13363  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B5/00
除透镜外的光学元件
G02B5/30
偏振元件
法律状态
2009-10-21 :
发明专利申请公布后的视为撤回
2008-04-23 :
实质审查的生效
2008-02-27 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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