光学薄膜及其应用、光学薄膜的制造方法
专利权的终止
摘要
本发明提供一种光学薄膜，其特征在于，是通过在透明高分子薄膜层上涂布聚氨基甲酸酯系树脂溶液形成粘附层并通过在该粘附层上涂布非液晶聚合物形成双折射层，从而作成层叠薄膜，进而对该层叠薄膜实施拉伸处理而成。由此，本发明提供一种透明高分子薄膜与双折射层剥离的可能性减少且双折射层的相位差的偏差少的光学薄膜。
基本信息
专利标题 ：
光学薄膜及其应用、光学薄膜的制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1779490A
申请号 ：
CN200510125129.6
公开（公告）日 ：
2006-05-31
申请日 ：
2005-11-18
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
村上奈穗吉见裕之
申请人 ：
日东电工株式会社
申请人地址 ：
日本大阪府
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
朱丹
优先权 ：
CN200510125129.6
主分类号 ：
G02B1/10
IPC分类号 ：
G02B1/10 G02B1/08 G02B5/30
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B1/00
按制造材料区分的光学元件；用于光学元件的光学涂层
G02B1/10
对光学元件表面涂覆或对它进行表面处理后所产生的光学涂层
法律状态
2011-02-02 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101035916083
IPC(主分类) : G02B 1/10
专利号 : ZL2005101251296
申请日 : 20051118
授权公告日 : 20071010
终止日期 : 20091218
号牌文件序号 : 101035916083
IPC(主分类) : G02B 1/10
专利号 : ZL2005101251296
申请日 : 20051118
授权公告日 : 20071010
终止日期 : 20091218
2007-10-10 ：
授权
2006-07-26 ：
实质审查的生效
2006-05-31 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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