光学薄膜的制造方法、光学薄膜、光学构件、图像显示装置、及...
公开
摘要
提供不损害透明层的透明性的光学薄膜的制造方法、光学薄膜、光学构件、图像显示装置、光学构件的制造方法及图像显示装置的制造方法。光学薄膜的制造方法的特征在于，在非透明层的贯通孔内形成透明层，掩蔽材料被覆工序中用形成有透明层形成用贯通孔的掩蔽材料被覆基材的一个面，透明层形成工序中在透明层形成用贯通孔内涂覆透明层形成用液从而形成透明层，掩蔽材料去除工序中将掩蔽材料从基材去除，非透明层形成工序中在基材的透明层形成面上涂覆非透明层形成用液从而形成非透明层，透明层形成用贯通孔外周的掩蔽材料的最小厚度T2(μm)与透明层的最薄部的厚度T1(μm)的比值T2/T1为3以下。
基本信息
专利标题 ：
光学薄膜的制造方法、光学薄膜、光学构件、图像显示装置、及它们的制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114573849A
申请号 ：
CN202111431413.1
公开（公告）日 ：
2022-06-03
申请日 ：
2021-11-29
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
远藤宽也桥本尚树安藤豪彦越智元气
申请人 ：
日东电工株式会社
申请人地址 ：
日本大阪府
代理机构 ：
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
刘新宇
优先权 ：
CN202111431413.1
主分类号 ：
C08J7/04
IPC分类号 ：
C08J7/04 C08L1/12 C09D4/02 C09D7/61 C09D4/06 G02B5/30
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C08
有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物
C08J
加工；配料的一般工艺过程；不包括在C08B，C08C，C08F，C08G或C08H小类中的后处理
C08J7/00
高分子物质成形制品的化学处理或涂层
C08J7/04
涂层
法律状态
2022-06-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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