光学薄膜的制造方法及其中所用的制造装置
授权
摘要

本发明提供一种可以将薄膜不断裂地拉伸,从而能够提高生产量的光学薄膜的制造方法、薄膜的引导方法、其中所用的制造装置、利用该制造方法得到的光学薄膜及使用了它的图像显示装置。本发明的光学薄膜的制造方法是具有将薄膜浸渍于溶液中的工序的光学薄膜的制造方法,其特征是,在不使所述薄膜接触溶液的状态下,将薄膜跨设于沿规定方向搬送的至少一对搬送辊之间后,将薄膜设为不松弛而伸展的状态,在该状态下将薄膜浸渍于溶液中。

基本信息
专利标题 :
光学薄膜的制造方法及其中所用的制造装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN101048680A
申请号 :
CN200580036474.0
公开(公告)日 :
2007-10-03
申请日 :
2005-10-26
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
滨本英二
申请人 :
日东电工株式会社
申请人地址 :
日本大阪府
代理机构 :
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 :
李香兰
优先权 :
CN200580036474.0
主分类号 :
G02B5/30
IPC分类号 :
G02B5/30  G02F1/1335  B29C55/02  B29L11/00  C08J7/02  C08L29/04  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B5/00
除透镜外的光学元件
G02B5/30
偏振元件
法律状态
2009-06-24 :
授权
2007-11-28 :
实质审查的生效
2007-10-03 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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