光学薄膜的制造方法

发明专利申请公布后的视为撤回

摘要

一种光学薄膜的制造方法，其特征在于，该制造方法包括如下工序：通过缠绕了起毛布(4a)的摩擦辊(4)擦拭长条塑料薄膜(F)的表面的摩擦处理工序、将液晶性分子涂布到薄膜的表面的涂布工序、固定液晶性分子的固定工序，在摩擦处理工序中，通过具有金属表面的输送带3支撑薄膜而进行输送，并且，将多个支承辊(5)配设成对支撑薄膜的输送带的下表面进行支撑并与摩擦辊相对，将下式(1)所定义的摩擦强度RS设定为2600mm以上，更优选为3400mm以上。RS＝N·M(1+2πr·nr/v)...(1)

基本信息

专利标题：

光学薄膜的制造方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN101107548A

申请号：

CN200680003141.2

公开（公告）日：

2008-01-16

申请日：

2006-01-24

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

秦和也川本育郎米泽秀行上条卓史梅本清司

申请人：

日东电工株式会社

申请人地址：

日本大阪府

代理机构：

北京林达刘知识产权代理事务所

代理人：

刘新宇

优先权：

CN200680003141.2

主分类号：

G02B5/30

IPC分类号：

G02B5/30 C08J7/04 B05D3/12 G02F1/13363 B32B7/02