光学薄膜用粘合剂、光学薄膜用粘合剂层及其制造方法、粘合型...
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摘要
本发明提供一种光学薄膜用粘合剂，其特征在于，以(甲基)丙烯酸烷基酯为主要成分，相对于不具有和异氰酸酯基反应的官能团的(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份，含有过氧化物(B)0.02～2重量份及异氰酸酯系化合物(C)0.01～5重量份而成。通过使用本发明的光学薄膜用粘合剂，可以抑制光学薄膜等构件由与尺寸变化相伴的应力而发生翘曲及漏光，而且可以得到耐久性高、制造工序方面具有优良的操作性的质量良好的粘合型光学薄膜。
基本信息
专利标题 ：
光学薄膜用粘合剂、光学薄膜用粘合剂层及其制造方法、粘合型光学薄膜、和图像显示装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101065693A
申请号 ：
CN200580040518.7
公开（公告）日 ：
2007-10-31
申请日 ：
2005-11-17
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
外山雄祐佐竹正之小笠原晶子诸石裕中野史子
申请人 ：
日东电工株式会社
申请人地址 ：
日本大阪府
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
李香兰
优先权 ：
CN200580040518.7
主分类号 ：
G02B5/30
IPC分类号 ：
G02B5/30 G02F1/1335 C09J133/04
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B5/00
除透镜外的光学元件
G02B5/30
偏振元件
法律状态
2009-10-21 ：
授权
2007-12-26 ：
实质审查的生效
2007-10-31 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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