光学薄膜用粘合剂及其制造方法,及其应用
授权
摘要
本发明的光学薄膜用粘合剂中相对于(甲基)丙烯酸系聚合物(A)100重量份，含有过氧化物(B)0.02～2重量份及异氰酸酯系化合物(C)0.001～2重量份，其中所述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)是相对于(甲基)丙烯酸烷基酯(a1)100重量份含有具有羟基的(甲基)丙烯酸系单体(a2)0.01～5重量份作为共聚成分，所述具有羟基的(甲基)丙烯酸系单体(a2)中，在羟基烷基中的烷基的碳原子数为4以上。由此，本发明提供的光学薄膜用粘合剂能够抑制由伴随光学薄膜等构件的尺寸变化的应力引起的翘曲和漏光，并且耐久性高，在制造工序方面具有出色的操作性，可以得到质量良好的粘合型光学薄膜。
基本信息
专利标题 ：
光学薄膜用粘合剂及其制造方法,及其应用
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN102181245A
申请号 ：
CN201110029511.2
公开（公告）日 ：
2011-09-14
申请日 ：
2005-12-01
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
外山雄祐佐竹正之小笠原晶子诸石裕中野史子
申请人 ：
日东电工株式会社
申请人地址 ：
日本大阪府
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
朱丹
优先权 ：
CN201110029511.2
主分类号 ：
C09J133/08
IPC分类号 ：
C09J133/08 C09J133/10 C09J11/06 G02B5/30
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C09
染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用
C09J
黏合剂；一般非机械方面的黏合方法；其他类目不包括的黏合方法；黏合剂材料的应用
C09J133/00
基于有1个或多个不饱和脂族基化合物的均聚物或共聚物的黏合剂，其中每个不饱和脂族基只有1个碳-碳双键，并且至少有1个是仅以1个羧基或其盐、酐、酯、酰胺、酰亚胺或腈为终端；基于此类聚合物的衍生物的黏合剂
C09J133/04
酯的均聚物或共聚物
C09J133/06
只含有碳、氢和氧的酯，而氧原子只作为羧基部分存在
C09J133/08
丙烯酸酯的均聚物或共聚物
法律状态
2015-09-30 ：
授权
2011-11-02 ：
实质审查的生效
号牌文件类型代码 : 1604
号牌文件序号 : 101127313384
IPC(主分类) : C09J 133/08
专利申请号 : 2011100295112
申请日 : 20051201
号牌文件序号 : 101127313384
IPC(主分类) : C09J 133/08
专利申请号 : 2011100295112
申请日 : 20051201
2011-09-14 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN102181245A.PDF
PDF下载
2、
CN102181245B.PDF
PDF下载
