紫外光吸收剂稳定剂组合
专利权的终止
摘要
一种由至少一种选自羟基苯基苯并三唑的化合物和至少一种化合物选自羟基二苯酮按照重量∶重量比约4∶1至1∶4组成的紫外光吸收剂共混物被发现特别有效地针对热，氧和光化辐射的有害作用而保护聚合物基材。聚合物基材尤其是包含聚氯乙烯(PVC)或PVC共聚物或包含PVC，或聚丙烯酸酯或不饱和聚酯的聚合物共混物。
基本信息
专利标题 ：
紫外光吸收剂稳定剂组合
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101068869A
申请号 ：
CN200580041074.9
公开（公告）日 ：
2007-11-07
申请日 ：
2005-11-23
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
R·威尔克
申请人 ：
西巴特殊化学品控股有限公司
申请人地址 ：
瑞士巴塞尔
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
关立新
优先权 ：
CN200580041074.9
主分类号 ：
C08K5/00
IPC分类号 ：
C08K5/00
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C08
有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物
C08K
使用无机物或非高分子有机物作为配料
C08K5/00
使用有机配料
法律状态
2018-11-09 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : C08K 5/00
申请日 : 20051123
授权公告日 : 20101103
终止日期 : 20171123
申请日 : 20051123
授权公告日 : 20101103
终止日期 : 20171123
2010-11-03 ：
授权
2008-01-23 ：
实质审查的生效
2007-11-07 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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